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CRF plasma 等離子清洗機

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crf等離子表面處理設備活化粉末表面產生的SiOx聚合物

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       電子漿料中的超微細粉體一般都是無機粉末,其大粒徑一般不超過15pum,平均粒度低于5pum,比表面積大,容易發生團聚產生大一點的2次顆粒,在有機載體中不易分散。而在有機載體中分散的均勻性和穩定性,對漿料的印刷性能以及制作的電子器件性能影響很大。用六甲基二硅氧烷(HMDSO)為單體,用plasma在無機玻璃粉表面聚合包覆硅氧聚合物薄層,改進其在有機載體中的分散性能以及調節電子漿料的流變性、印刷適性和燒結性能,提升電子漿料性能以滿足新型電子器件和絲網印刷技術進步的規定。影響crf等離子表面處理設備聚合的參數有:本底真空度、工作氣壓、單體HMDSO與工作氣體AR的比例、電源功率、等待時間、工作溫度等。

等離子表面處理設備

      未經處理的粉末壓片,在接觸角測量時,質量分數為0.1%的高錳酸鉀水溶液,在粉末壓片表面瞬間吸收,而處理后粉末壓片,液滴能在上面穩定存在而不潤濕粉末。放電時間越長、氣體中單體濃度越高、電源功率越高,粉末接觸角越大。這主要是由于在粉末表面聚合形成的低表面能SiOx聚合物越多,表面疏水性越強。

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