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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

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      現(xiàn)如今,普遍采用的清洗方法主要包括濕清洗和千法清洗。濕清洗有很大的限制性,從對(duì)環(huán)境的危害來(lái)看。充分考慮到材料的損耗和未來(lái)發(fā)展趨勢(shì),干式清洗明顯優(yōu)于濕式清洗。crf誠(chéng)峰智造plasma清洗機(jī)具備迅速發(fā)展和明顯的優(yōu)勢(shì)。等離子指的是由電子、離子、原子、分子或自由基等粒子組成的結(jié)合體。清洗階段中,高能電子撞擊反應(yīng)氣體分子,使其離解或電離,利用多種粒子轟擊清洗表層或與清洗表層發(fā)生化學(xué)反應(yīng),有效的清除多種污染物質(zhì);它還能夠增強(qiáng)材料自身的表層性能指標(biāo),如增強(qiáng)表層的濕潤(rùn)性能指標(biāo)和膜的附著性,這在眾多應(yīng)用中十分關(guān)鍵。crf誠(chéng)峰智造plasma清洗機(jī)清洗后,設(shè)備表層干燥,不用再處理,可增強(qiáng)整個(gè)工藝流水線的處理效率;可使操作人員遠(yuǎn)離有害溶劑的損壞;等離子可深入物體的微孔和凹陷,不用過(guò)多考慮清洗物體的形狀;也可處理多種材料,特別適用于不耐熱和不耐溶劑材料。這一些優(yōu)勢(shì)引起了crf誠(chéng)峰智造plasma清洗機(jī)清洗的普遍關(guān)注。

plasma清洗機(jī)

     crf誠(chéng)峰智造plasma清洗機(jī)分為化學(xué)清洗、物理清洗和物理化學(xué)清洗。對(duì)于不同的清潔對(duì)象,可選擇O2、H2和Ar等藝術(shù)氣體進(jìn)行短時(shí)間表面處理。                  

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